Multilayer coatings by plasma enhanced chemical vapor...

C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C

Patent

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Details

C23C 16/02 (2006.01) B05D 7/24 (2006.01) C08J 7/04 (2006.01) C23C 16/40 (2006.01)

Patent

CA 2578354

The present invention provides a process for preparing a multiple layer coating on the surface of an organic polymeric substrate by means of atmospheric pressure plasma deposition, the steps of the process comprising depositing a layer (first layer) of a plasma polymerized, optically clear, highly adherent, organosilicon compound onto the surface of the organic polymeric substrate by atmospheric pressure plasma deposition of a gaseous mixture comprising an organosilicon reagent compound and optionally an oxidant in a first step and thereafter in a second step depositing a substantially uniform layer (second layer) of a silicon oxide compound onto the exposed surface of said first layer by atmospheric pressure plasma deposition of a gaseous mixture comprising an oxidant and an organosilicon reagent compound, wherein the molar ratio of oxidant to organosilicon reagent compound in the gaseous mixture is greater in the second step than in the first step.

L'invention concerne un procédé permettant de préparer un revêtement à couches multiples sur la surface d'un substrat polymère organique par dépôt activé par plasma sous pression atmosphérique. Ledit procédé consiste, dans une première étape, à déposer une couche (une première couche) de composé d'organosilicium polymérisé par plasma, optiquement clair et à adhérence élevée sur la surface du substrat polymère organique, par dépôt activé par plasma sous pression atmosphérique, d'un mélange gazeux comprenant un composé réactif d'organosilicium et éventuellement un oxydant; et dans un seconde étape, à déposer une couche sensiblement uniforme (une second couche) d'un composé d'oxyde de silicium sur la surface exposée de la première couche obtenue par dépôt, activé plasma sous pression atmosphérique, d'un mélange gazeux comprenant un oxydant et un composé réactif d'organosilicium, le rapport molaire entre l'oxydant et le composé réactif d'organosilicium dans le mélange gazeux étant supérieur dans la seconde étape à celui de la première étape.

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