B - Operations – Transporting – 32 – B
Patent
B - Operations, Transporting
32
B
B32B 15/00 (2006.01)
Patent
CA 2595300
The invention concerns multilayered constructions useful for forming resistors and capacitors, for the manufacture of printed circuit boards or other microelectronic devices. The multilayered constructions comprise sequentially attached layers comprising: a first electrically conductive layer, a first thermosetting polymer layer, a heat resistant film layer, a second thermosetting polymer layer, and a nickel-phosphorus electrical resistance material layer electroplated onto a second electrically conductive layer.
La présente invention concerne des constructions multicouches qui conviennent pour former des résistances et des condensateurs, pour la fabrication de carte de circuits imprimés et d'autres dispositifs micro-électroniques. Ces constructions multicouches comprennent des couches fixées séquentiellement comprenant : une première couche électriquement conductrice, une première couche de polymère thermodurcissable, une couche de film thermorésistant, une deuxième couche de polymère thermodurcissable et une couche de matériau de résistance électrique nickel-phosphore électrodéposée sur une deuxième couche électriquement conductrice.
Andresakis John A.
Brandler Daniel
Mahler Bruce
Pramanik Pranabes K.
Gowling Lafleur Henderson Llp
Oak-Mitsui Inc.
Ohmega Technologies Inc.
LandOfFree
Multilayerred construction for resistor and capacitor formation does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Multilayerred construction for resistor and capacitor formation, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Multilayerred construction for resistor and capacitor formation will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-2063779