Multiple-reflection delay line for a laser beam and...

H - Electricity – 01 – S

Patent

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H01S 3/098 (2006.01)

Patent

CA 2580968

The invention relates to a multiple-reflection delay line (18) for a laser beam (15), comprising mirror elements for the multiple reflection of the laser beam (15), in order to reduce the dimensions of a laser resonator (12) for a predetermined optical length. According to the invention, the mirror elements are configured by two opposing longitudinal polished surfaces (S2, S3) of a glass element (21), which extends in one direction and which comprises a polished laser beam entry surface (S1), in addition to a polished laser beam exit surface (S4). The mirror element surfaces (S2, S3) of the glass element lie between the entry surface (S1) and the exit surface (S4), forming an angle (.theta.1) with the laser beam (15) that at least equals the critical angle (.theta.c) for total reflection, whereas the entry surface (S1) and the exit surface (S4) of the glass element (21) define an angle with the laser beam (15) that is less than the critical angle (.theta.c) for total reflection.

L'invention concerne des lignes de retard (18) à réflexion multiple pour un faisceau laser (15) comprenant des éléments miroir permettant de réfléchir plusieurs fois ledit faisceau (15), afin de réduire les dimensions d'un résonateur laser (12) à une longueur optique prédéterminée. Les éléments miroir sont formés par deux surfaces (S2, S3) polies, s'étendant longitudinalement et qui sont placées face à face, d'un élément en verre (21) s'étendant dans un sens, lequel présente une face d'entrée (S1) du faisceau laser, polie et une face de sortie (S4) du faisceau laser, polie. Les surfaces (S2, S3) de l'élément miroir de l'élément en verre sont placées entre la face d'entrée (S1) et la face de sortie (S4) et forment un angle (?1) avec le faisceau laser (15), qui est supérieur ou égal à l'angle critique (?c) pour la réflexion totale, la face d'entrée (S1) et la face de sortie (S4) de l'élément en verre (21) définissant un angle avec le faisceau laser (15) qui est inférieur à l'angle critique (?c) pour la réflexion totale.

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