C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 239/42 (2006.01) A61K 31/505 (2006.01) A61K 31/506 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) A61P 37/00 (2006.01) C07D 403/04 (2006.01) C07D 405/04 (2006.01) C07D 409/14 (2006.01)
Patent
CA 2553513
Compounds of a certain formula 1 in which R1 and R2 have the meanings indicated in the description are novel kinase inhibitors. Formula (1), in which R1 is phenyl, phenyl substituted by R3 and/or R4, naphthalenyl, naphthalenyl substituted by R5 and/or R6, aryl1, aryl1 substituted by R7 and/or R8, R9, R10 or R11, R2 is phenyl, phenyl substituted by R12 and/or R13, naphthalenyl, naphthalenyl substituted by R14 and/or R15, aryl2, aryl2 substituted by R16 and/or R17 or a radical selected from Formula (2).
L'invention concerne des composés représentés par la formule (1) dans laquelle R1 et R2 sont tels que décrits dans la description de nouveaux inhibiteurs de kinase. Dans cette formule, R1 représente du phényle, du phényle substitué par R3 et/ou R4, du naphthalényle, du naphthalényle substitué par R5 et/ou R6, de l'aryle 1, de l'aryle 1 substitué par R7 et/ou R8, R9, R10 ou R11, R2 représente du phényle, du phényle substitué par R12 et/ou R13, du naphthalényle, du naphthalényle substitué par R14 et/ou R15, de l'aryle 2, de l'aryle 2 substitué par R16 et/ou R17 ou un radical sélectionné parmi (2).
Barsig Johannes
Baudler Monika
Bundschuh Daniela
Gantner Florian
Graedler Ulrich
Altana Pharma Ag
Gowling Lafleur Henderson Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1938215