G - Physics – 01 – N
Patent
G - Physics
01
N
G01N 1/34 (2006.01) B01D 57/02 (2006.01) G01N 27/447 (2006.01)
Patent
CA 2226405
Separation matrices useful in the formation of solid-state mm- to cm-scale devices for the rapid, high-resolution separation of single-stranded DNA ladder bands generated by the Sanger dideoxy- or Maxam/Gilbert chemical DNA sequencing procedures are formed from a solid support (1) having a plurality of posts (4) disposed on a first major surface thereof to form an obstacle course of posts (4) and pores (5). The posts are arranged in a regular X, Y array and are separated one from another by a distance of 100 nm or less, preferably 10 to 30 nm, and are optionally separated into lanes 2. The separation matrix can be manufactured by first forming a mold, preferably a reusable mold using lithography techniques. The mold is the reverse of the desired pattern of posts and pores of the obstacle course, and is used for casting the obstacle course. The cast obstacle course is then fused to a solid support and separated from the mold. Alternatively, the separation matrix can be formed from a polymer which undergoes specific and quantifiable swelling in the presence of a selected chemical compound. In this case, the matrix is cast on a mold in a conventional manner with a spacing between posts greater than the desired final spacing of 100 nm or less. For use, a buffer solution saturated with the specific chemical agent that controls swelling is added, causing the posts to swell to a defined amount to achieve the desired separation.
L'invention concerne des matrices de séparation servant à la fabrication d'appareils transistorisés à l'échelle du mm au cm pour la séparation haute définition de bandes d'échelles d'ADN à simple brin obtenues par les méthodes de Sanger ou de Maxam et Gilbert. On forme les matrices à partir d'un support solide (1) ayant une multitude de postes (4) placés sur une première surface principale de celui-ci pour constituer un parcours d'obstacle de postes (4) et de pores (5). Les postes dont disposés dans une série régulière X, Y et sont séparés l'un de l'autre par une distance de 100 nm ou moins, de préférence une distance de 10 à 30 nm, et sont éventuellement séparés en 2 voies. La matrice de séparation peut se fabriquer en formant d'abord un moule, de préférence un moule réutilisable, à l'aide de techniques de lithographie. Le moule est l'inverse du modèle voulu de postes et de pores pour le parcours d'obstacle, et est utilisé pour couler le parcours d'obstacle. Le parcours d'obstacle coulé est ensuite réuni à un support solide puis séparé du moule. Dans un mode de réalisation en variante, la matrice de séparation peut se fabriquer à partir d'un polymère qui subit un gonflement spécifique et quantifiable en présence d'un composé chimique sélectionné. Dans ce cas, la matrice est coulée dans un moule de façon classique avec un espacement entre les postes supérieur à l'espacement final souhaité de 100 nm ou moins. Pour son utilisation, on ajoute une solution tampon saturée de l'agent chimique spécifique qui régule le gonflement. Ceci provoque le gonflement des postes qui augmentent jusqu'à une taille définie pour obtenir la séparation souhaitée.
Izmailov Alexandre M.
Larson Marina T.
Maruzzo Bruno
Stevens John K.
Waterhouse Paul
Torys Llp
Visible Genetics Inc.
LandOfFree
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