C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 471/04 (2006.01) A61K 31/435 (2006.01)
Patent
CA 2295598
Naphthyridine derivatives represented by general formula (1) wherein A represents lower alkylene; R1 represents hydrogen or an electron pair "-"; R2 represents optionally substituted phenyl; R3 represents (a) (wherein R4 and R5 each represents lower alkyl, etc.) when R1 is an electron pair "-", or represents -S-R6 (wherein R6 represents lower alkyl, etc.) when R1 is hydrogen; and R7 represents hydrogen or lower alkyl]; and an analgetic preparation containing any of the derivatives as the active ingredient.
L'invention porte sur des dérivés de napththyridine représentés par la formule générale (1) [dans laquelle A représente un alkylène inférieur; R?1¿ représente hydrogène ou une paire d'électrons "-"; R?2¿ représente phényle éventuellement substitué; R?3¿ représente la formule (a) (dans laquelle R?4¿ et R?5¿ représentent chacun alkyle inférieur, etc.) lorsque R?1¿ représente une paire d'électrons "-" ou représente -S-R?6¿ (R?6¿ représentant alkyle inférieur, etc.) lorsque R?1¿ représente hydrogène; et R?7¿ représente hydrogène ou alkyle inférieur]. L'invention porte également sur une préparation analgésique contenant un quelconque de ces dérivés sous forme d'ingrédient actif.
Iwamoto Takeshi
Okamura Takashi
Shibutani Tadao
Shoji Yasuo
Yasuda Tsuneo
Marks & Clerk
Otsuka Pharmaceutical Factory Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1762231