H - Electricity – 01 – S
Patent
H - Electricity
01
S
H01S 3/22 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01) H01S 3/225 (2006.01) H01S 3/036 (2006.01)
Patent
CA 2377832
The present invention provides a very narrow band pulse excimer laser capable of producing pulses at a rate in the range of about 500 to 2000 Hz with enhanced energy dose control and repoducibility. Very small quantities of a stabilizing additive consisting of oxygen or a heavy noble gas (xenon or radon for KrF lasers, or krypton, xenon or radon for ArF lasers), are added to the gas mixture. Tests performed show substantial improvements in energy stability with the addition of about 30 ppm of xenon to a KrF laser. Tests show improved performance for the ArF Lasers with the addition of about 6-10 ppm of Xe or 40 ppm of Kr. In a preferred embodiment, very narrow bandwidth is achieved on a KrF laser by reducing fluorine partial pressure to less than 0.10 percent and by increasing the reflectance of the output coupler to greater than 25 percent. In a preferred embodiment, prior art fused silica beam expansion prisms used in the prior art line narrowing module were replaced with calcium fluoride prisms (see fig - specification devoid of reference numeros).
La présente invention concerne un laser excimère à impulsions bande très étroite capable de produire des impulsions à des fréquences comprises entre 500 à 2000 Hz avec une commande de la dose d'énergie et une reproductibilité améliorées. De très faibles quantités d'un adjuvant stabilisant, notamment d'oxygène ou d'un gaz noble lourd (xénon ou radon pour les lasers KrF ou bien krypton, xénon ou radon pour les lasers ArF), sont ajoutés au mélange gazeux. Des tests ont démontré des améliorations substantielles en termes de stabilité d'énergie par l'addition d'environ 30 ppm de xénon au laser KrF. Des tests ont démontré des performances améliorées pour les lasers ArF par l'addition d'environ 6 à 10 ppm de Xénon ou 40 ppm de Krypton. Dans un mode de réalisation préféré, on obtient une largeur de bande très étroite pour un laser KrF par réduction de la pression partielle du fluor qui est ramenée à moins de 0,10 pour-cent et par augmentation de la réflexion de la sortie du coupleur qui est amenée à plus de 25 pour-cent. Dans un mode de réalisation préféré, les primes d'expansion de faisceau en silice en fusion utilisés, selon l'état de la technique, dans le module de réduction de ligne correspondant à l'état de la technique sont remplacés par des prismes de fluorure de calcium. (voir fig. spécification exempte de numéros de références).
Besaucele Herve A.
Hofmann Thomas
Ishihara Toshihiko
Cymer Inc.
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1563052