Near infrared microbial elimination laser system (nimels)

A - Human Necessities – 61 – L

Patent

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Details

A61L 2/00 (2006.01)

Patent

CA 2615799

Methods, systems, and apparatus for Near Infrared Microbial Elimination Laser Systems (NIMELS) are disclosed that can apply near infrared radiant energy of certain wavelengths and dosimetries capable of impairing biological contaminants, for example fungus, without intolerable risks and/or adverse effects to biological moieties other than a targeted biological contaminant. Lasers including diode lasers may be used as one or more light sources. A delivery assembly can be used to deliver the optical radiation produced by the source(s) produced to an application region that can include patient tissue. A flat top lens can be included to produce a flat top beam distribution. Exemplary embodiments utilize laser light in a near infrared range of 850nm- 900nm and/or 905nm-945nm at suitable NIMELS dosimetries. For certain applications, laser light in two spectral ranges including 870 nm and 930 nm, respectively, can be utilized.

L'invention concerne des méthodes, des systèmes et un appareil pour des systèmes laser d'élimination microbienne à infrarouge proche (NIMELS). Les méthodes, les systèmes et l'appareil de l'invention peuvent appliquer une énergie rayonnante infrarouge proche présentant certaines longueurs d'ondes et certaines dosimétries permettant d'altérer des contaminants biologiques, par exemple des champignons, sans qu'il ne se produise de risques intolérables ni/ou de faits nuisibles sur les fractions biologiques autres qu'un contaminant biologique ciblé. Les lasers de l'invention comprennent des lasers à diodes pouvant être utilisés comme sources de lumière uniques ou comme sources de lumière multiples. Un assemblage d'administration peut être utilisé pour administrer le rayonnement optique produit par la ou les sources produite(s) sur la zone d'application qui peut comprendre un tissu de patient. Une lentille supérieure plate peut être intégrée pour produire une distribution de faisceau supérieure plate. Des modes de réalisation d'exemple de l'invention font appel à une lumière laser dans une plage d'infrarouge proche comprise entre of 850 nanomètres et 900 nanomètres et/ou 905 nanomètres et 945 nanomètres, à des dosimétries NIMELS appropriées. Pour certaines applications, la lumière laser de deux plages spectrales comprenant respectivement 870 nanomètres et 930 nanomètres peut être utilisée.

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