C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 213/82 (2006.01) A61K 31/4412 (2006.01) A61P 29/00 (2006.01) C07D 401/12 (2006.01) C07D 413/12 (2006.01)
Patent
CA 2686091
A compound represented by the formula (I): wherein R1 is lower alkyl, cycloalkyl or aromatic hydrocarbon ring, each of which is optionally substituted with one or more substituents; R2 is hydrogen atom, halogen atom, lower alkyl, halo(lower)alkyl or lower alkoxy; and R3 is (1) a group represented by the formula: wherein R4 is lower alkyl, etc.; (2) a group represented by the formula: wherein R5 is lower alkyl, etc.; (3) a group represented by the formula: wherein R6 is lower alkyl, etc.; or (4) a group selected from halogen atom, carboxy, hydroxy and lower alkoxy, or a salt thereof.
L'invention concerne un composé représenté par la formule (I) dans laquelle R1 est un alkyle, un cycloalkyle inférieur ou un cycle hydrocarbure aromatique, chacun d'eux étant facultativement substitué par un ou plusieurs substituants; R2 est un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, un alkyle inférieur, un (halo)alkyle inférieur ou un alcoxy inférieur; et R3 est (1) un groupe représenté par la formule: dans laquelle R4 est un alkyle inférieur, etc.; (2) un groupe représenté par la formule: dans laquelle R5 est un alkyle inférieur, etc.; (3) un groupe représenté par la formule: dans laquelle R6 est un alkyle inférieur, etc.; ou (4) un groupe choisi entre un atome d'halogène, un carboxy, un hydroxy et un alcoxy inférieur, ou un sel de ces derniers.
Kasahara Chiyoshi
Yamazaki Hitoshi
Astellas Pharma Inc.
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Wakunaga Pharmaceutical Co. Ltd.
LandOfFree
New compounds does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with New compounds, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and New compounds will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-2000631