C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 69/74 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01) H01L 21/308 (2006.01)
Patent
CA 2586864
The present invention relates to compounds of formula (I): wherein R1 is H, or a C1-C10 linear, branched or cyclic alkyl group which is unsubstituted or substituted with fluorine; R2 is an alicyclic group having 5 to 20 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with fluorine; and R3 represents a C1-C10 linear or branched alkylène which is unsubstituted or substituted with fluorine. Processes for preparing such compounds are also disclosed. The compounds of the present invention can be used as monomers in the fields of photolithography and semiconductor fabrication.
La présente invention a pour objet des composés de formule (I) : où R1 représente H ou un groupement alkyle linéaire, ramifié ou cyclique en C1-C10, non substitué ou substitué par du fluor ; R2 représente un groupement alicyclique en C5-C20, non substitué ou substitué par du fluor ; et R3 représente un groupement alkylène linéaire ou ramifié en C1-C10, non substitué ou substitué par du fluor. La présente invention décrit également des procédés de synthèse de tels composés. Les composés décrits dans la présente invention peuvent être employés en tant que monomères dans les domaines de la photolithographie et de la fabrication de semi-conducteurs.
Bouchard Luc
Desilets Denis
Feghali Khalil
Khojasteh Mahmoud
Marcotte Ian
International Business Machines Corporation (ibm)
Norton Rose Canada S.e.n.c.r.l.,s.r.l./llp
St-Jean Photochimie Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2066365