C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 491/048 (2006.01) A61K 31/4355 (2006.01) A61K 31/4523 (2006.01) A61K 31/4525 (2006.01) A61K 31/541 (2006.01) C07D 405/14 (2006.01) C07D 417/14 (2006.01) C07D 491/04 (2006.01)
Patent
CA 2364864
L'invention concerne de nouveaux composés répondant à la formule (I): (see formula I) dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, un groupement alkyle ou alkoxy; X représente un atome d'oxygène ou de soufre, ou un groupement NR dans lequel R représente un atome d'hydrogène ou un groupement alkyle; A représente l'un quelconque des groupements suivants: (see formula II) dans lequel R a représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, ou un groupement alkyle ou alkoxy, (see formula III) dans lequel R b et R c, identiques ou différents, représentent un atome d'hydrogène ou un groupement alkyle, n représente 0, 1 ou 2, (see formula IV) L'invention vise également les isomères des composés de formule (I), ainsi que leurs sels d'addition à un acide ou à une base pharmaceutiquement acceptable. Les composés selon l'invention sont utiles comme inhibiteurs de métalloprotéases.
Benoist Alain
de Nanteuil Guillaume
Hickman John
Pastoureau Philippe
Pierre Alain
Les Laboratoires Servier
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1571642