C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 491/048 (2006.01) A61K 31/436 (2006.01) A61K 31/444 (2006.01) A61K 31/4545 (2006.01) A61K 31/496 (2006.01) A61K 31/506 (2006.01) A61K 31/5377 (2006.01) A61K 31/55 (2006.01) A61P 1/04 (2006.01) A61P 9/10 (2006.01) A61P 19/02 (2006.01) A61P 35/00 (2006.01) C07D 491/04 (2006.01)
Patent
CA 2313302
L'invention concerne de nouveaux composés répondant à la formule (I): (voir formule I) dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène ou d'halogène, ou un groupement alkyle ou alkoxy, R2 représente un groupement hydroxy, alkoxy ou -NHOH, Ar1 représente un groupement phénylène ou biphénylène, X représente un atome d'oxygène ou de soufre, un groupement NR, un groupement -C.ident.C- ou une liaison, R représente un atome d'hydrogène ou un groupement alkyle, n représente un nombre entier compris entre 0 et 6 inclus, et Ar2 représente (a) un groupement phényle substitué par un groupement hétéroaryle, (b) un groupement biphényle substitué par un groupement hétéroaryle, (c) un groupement pyridinyle substitué par un groupement hétéroaryle, ou (d) un groupement hétérocyclique, leurs isomères ainsi que leurs sels d'addition à un acide ou à une base pharmaceutiquement acceptable. Les composés selon l'invention sont utiles comme inhibiteurs de métalloprotéases.
Atassi Ghanem
Benoist Alain
Bonnet Jacqueline
de Nanteuil Guillaume
Pierre Alain
Adir Et Compagnie
Les Laboratoires Servier
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1682087