C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 233/01 (2006.01) C07C 233/05 (2006.01) C07C 233/18 (2006.01) C07C 233/31 (2006.01) C07C 233/36 (2006.01) C07C 233/47 (2006.01) C07C 233/58 (2006.01) C07C 233/60 (2006.01) C07C 233/65 (2006.01) C07C 255/60 (2006.01) C07C 255/66 (2006.01) C07C 275/24 (2006.01) C07C 309/65 (2006.01) C07C 327/42 (2006.01) C07C 335/12 (2006.01) C07D 213/56 (2006.01) C07D 307/52 (2006.01) C07D 307/54 (2006.01) C07D 333/20 (2006.01) C07D 333/24 (2006.01)
Patent
CA 2254658
Composé de formule (I) (voir formule I) dans laquelle .cndot. T représente une chaîne alkylène, .cndot. A et B forment ensemble un groupement naphtalène, dihydronaphtalène, ou tétrahydronapthalène, .cndot. R représente un hydrogène, un groupement hydroxy, R' ou OR' , R' étant tel que défini dans la description, .cndot. G1 représente un halogène, un radical R1 ou un groupement -O-CO-R1, R1 étant tel que défini dans la description, .cndot. G2 représente un groupement choisi parmi Image X, R2 et R21 étant tels que définis dans la description.
Bennejean Caroline
Delagrange Philippe
Demuynck Luc
Depreux Patrick
Lefoulon Francois
Adir Et Compagnie
Les Laboratoires Servier
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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