C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
402/21, 400/5301
C08G 77/26 (2006.01) C07F 7/08 (2006.01) C08G 77/388 (2006.01) C08G 77/452 (2006.01) C08L 83/08 (2006.01) C08L 101/00 (2006.01)
Patent
CA 2178996
L'invention concerne des polyorganosiloxanes linéaires, cycliques ou ramifiés ayant par molécule au moins trois motifs siloxyles dont au moins un motif fonctionnel de formule: Image où R1 représente un radical alkyle en C1 à C4 ou phényle, X renferme une fonction amine cyclique secondaire ou tertiaire, liée au silicium par une liaison Si-A-C où A est un reste comprenant un groupe acétal cyclique. X représente plus précisément un groupe monovalent de formule: Image (II) où: R2 est H ou un radical alkyle; Z est un radical trivalent de nature aliphatique, comme par exemple le radical -CO-CH-CO-, ou de nature aromatique, comme par exemple le radical Image ; R3 à R6 sont des radicaux alkyle, phényle et/ou benzyle; R7 est H ou un radical alkyle, alkylcarbonyle, phényle ou benzyle; x = 0, 1, 2 ou 3; y = 0 ou 1, et a = 0, 1 ou 2. L'invention concerne également l'utilisation de pareils polyorganosiloxanes dans les polymères pour améliorer notamment leur photostabilisation.
Karrer Philippe
Mignani Gerard
Pontini Bernard
Storet Isabelle
Rhone-Poulenc Chimie
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1509024