C - Chemistry – Metallurgy – 07 – H
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
H
C07H 17/08 (2006.01) A61K 31/70 (2006.01)
Patent
CA 2338172
The invention relates to compounds of the formula (1), wherein: X represents a (NH)a, CH2 or SO2 radical or an oxygen atom, a represents 0 or 1, Y represents a (CH2)m- (CH=CH)n-(CH2)o radical with m+n+o <= 8, n = 0 or 1, Ar represents an aryl or heteroaryl radical, optionally substituted, W represents a hydrogen atom or a halogen atom, Z represents a hydrogen atom or an acid residue, and their addition salts with acids. The compounds of formula (1) have antibiotic properties.
L'invention a pour objet les composés de formule (1) dans lesquels: X représente un radical (NH)a, CH2 ou SO2 ou un atome d'oxygène, a représente le nombre 0 ou 1, Y représente un radical (CH2)m- (CH=CH)n-(CH2)o avec m+n+o <= 8, n = 0 ou 1, Ar représente un radical aryle ou hétéroaryle, éventuellement substitué, W représente un atome d'hydrogène ou un atome d'halogène, Z représente un atome d'hydrogéne ou le reste d'un acide ainsi que leurs sels d'addition avec les acides. Les composés de formule (I) présentent des propriétés antibiotiques.
Auger Jean-Michel (decede)
Denis Alexis
Aventis Pharma S.a.
Hoechst Marion Roussel
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1551735