C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 277/06 (2006.01) A61K 31/427 (2006.01) A61P 25/00 (2006.01) C07D 295/18 (2006.01) C07D 417/12 (2006.01)
Patent
CA 2628145
The invention relates to compounds of the general formulae (1) and (2) A - B - D - B' - A' (1) and A - B - D - E (2), in which A and A' may be identical or different and are the radical (I) in which X is S, O, CH2, CH2CH2, CH2O or CH2NH, and Y is H or CN, and * designates a chiral carbon atom, preferably in the S or L configuration; B and B' may be identical or different and are an O- , N- or S-containing or non-O-, N- or S-containing, unsubstituted or substituted, unbranched or branched alkylene radical, cycloalkylene radical, aralkylene radical, heterocycloalkylene radical, heteroarylalkylene radical, arylamidoalkylene radical, heteroarylamidoalkylene radical, unsubstituted or mono- or polysubstituted arylene radical or heteroarylene radical having one or more five-, six- or seven-membered ring(s); D is -S-S- or -Se-Se-; and E is the group -CH2-CH(NH2)-R9 or -CH2-*CH(NH2)-R9in which R9 is an O-, N- or S- containing or non-O-, N- or S-containing, unsubstituted or substituted, unbranched or branched alkyl radical, cycloalkyl radical, aralkyl radical, heterocycloalkyl radical, heteroarylalkyl radical, arylamidoalkyl radical, heteroarylamidoalkyl radical, unsubstituted or mono- or polysubstituted aryl radical or heteroaryl radical having one or more five-, six- or seven-membered rings and * designates a chiral carbon atom preferably in the S or L configuration; or the acid addition salts thereof with organic and/or inorganic acids; and the use of the compounds of the general formulae (1) and (2) in medicine.
L~invention concerne des composés de formules générales (1) et (2) A - B - D - B' - A' (1) et A - B - D - E (2), dans lesquelles A et A' sont identiques ou différents et représentent le radical (I), X représentant S, O, CH2, CH2CH2, CH2O ou CH2NH, Y représentant H ou CN et * représentant un atome de carbone chiral de préférence de configuration S ou L ; B et B' sont identiques ou différents et représentent des radicaux alkyle, cycloalkyle, aralkyle, hétérocycloalkyle, hétéroarylalkyle, arylamidoalkyle ou hétéroaryamidoalkyle linéaires ou ramifiés, substitués ou non substitués, pouvant contenir un atome de O, N ou S, des radicaux aryle ou hétéroaryle non substitués ou comportant un ou plusieurs substituants et comportant un ou plusieurs cycles à cinq, six ou sept éléments ; D représente - S - S - ou - Se - Se - ; et E représente le groupement - CH2- CH (NH2) - R9 ou - CH2 - *CH (NH2) - R9, dans lequel R9 représente un radical alkyle, cycloalkyle, aralkyle, hétérocycloalkyle, hétéroarylalkyle, arylamidoalkyle ou hétéroaryamidoalkyle linéaire ou ramifié, substitué ou non substitué, pouvant contenir un atome de O, N ou S, un radical aryle ou hétéroaryle non substitué ou comportant un ou plusieurs substituants et comportant un ou plusieurs cycles à cinq, six ou sept éléments et * représente un atome de carbone chiral de préférence de configuration S ou L ; ou leurs sels d~addition acide avec des acides organiques et/ou inorganiques ; ainsi que l~utilisation des composés de formules générales (1) et (2) dans un médicament.
Ansorge Siegfried
Bank Ute
Faust Juergen
Fuchs Petra
Neubert Klaus
Fasken Martineau Dumoulin Llp
Imtm Gmbh
LandOfFree
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