C - Chemistry – Metallurgy – 07 – H
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
H
C07H 17/08 (2006.01) A61K 31/70 (2006.01)
Patent
CA 2164798
L'invention a pour objet les composés de formule (I): (see formula I) dans lesquels R1 est un radical hydroxyle ou O-acyle renfer- mant de 2 à 20 atomes de carbone, R2 est un atome d'hydrogène ou un radical méthyle, R3 est soit un radical -(CH2)m R4 dans lequel m est un nombre entier variant de 1 à 6, (see formula II) soit un radical dans lequel n et p identiques ou différents représentent un nombre entier variant de 0 à 6, et ou bien A et B identiques ou différents représentent un atome d'hydrogène ou un atome d'halogène ou un radical alkyle renfermant jusqu'à 8 atomes de carbone, la géométrie de la double liaison étant E ou Z ou un mélange E + Z, ou bien A et B forment avec les atomes de carbone auxquels ils sont liés une triple liaison, soit un radical -N- (CH2)q R4 dans lequel q représente un nombre entier variant de 0 à 6, R4 étant un radical hétérocyclique mono ou polycyclique substitué ou non, ainsi que leurs sels d'addition avec les acides. Les composés de formule (I) ont une activité antibiotique particulièrement bonne sur les bactéries grame~ et peuvent donc être utilisés comme médicaments contre des infections à germes sensibles.
Agouridas Constantin
Chantot Jean-Francois
Aventis Pharma S.a.
Robic
Roussel-Uclaf
LandOfFree
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