C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 305/14 (2006.01)
Patent
CA 2716925
The present invention relates to compounds of formula I or salts thereof, wherein, R1 is selected from the group consisting of hydrogen and R4; R2 is selected from the group consisting of hydrogen, acetyl and R4; R3 is selected from the group consisting of alkyl, -O-alkyl,-NH-alkyl, aryl and heterocyclyl; R4 represents a moiety (A) wherein, X is selected from the group consisting of a single bond, alkylene, alkenylene, alkynylene, arylene or a heterocyclylene moiety; R5 and R6 are same or different and are independently selected from hydrogen, alkyl, aryl or heterocyclyl; or R5 and R6 may form together with the nitrogen atom to which they are attached a heterocyclyl ring system.
La présente invention concerne des composés de formule I ou leurs sels, dans laquelle R1 est choisi dans le groupe constitué par hydrogène et R4; R2 est choisi dans le groupe constitué par hydrogène, acétyle et R4; R3 est choisi dans le groupe constitué par alkyle, -O-alkyle,-NH-alkyle, aryle et hétérocyclyle; R4 représente une fraction (A), dans laquelle X est choisi dans le groupe constitué par une simple liaison, une fraction alkylène, alcénylène, alcynylène, arylène ou hétérocyclylène; R5 et R6 sont identiques ou différents et sont choisis indépendamment parmi hydrogène, alkyle, aryle ou hétérocyclyle; ou R5 et R6 peuvent former ensemble avec l'atome d'azote auquel ils sont attachés un système cyclique hétérocyclyle.
Chitturi Trinadha Rao
Patel Gopalkumar Chimanlal
Patel Jiten Ranchhodbhai
Sheth Gaurav Sanjivkumar
Thennati Rajamannar
Deeth Williams Wall Llp
Sun Pharma Advanced Research Company Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1817904