C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 211/16 (2006.01) A61K 31/495 (2006.01) C07D 211/18 (2006.01) C07D 211/70 (2006.01) C07D 295/185 (2006.01) C07D 295/205 (2006.01) C07D 295/215 (2006.01)
Patent
CA 2244940
Compounds of formula (I), wherein Ar¿1? is an aromatic residue such as optionally substituted phenyl, naphthyl or pyridyl, or an optionally substituted heterocyclic ring, A-B is CH-CH¿2? or C=CH, X is O, NH, CH¿2?O or CH¿2?-NH, and Ar¿2? is an aromatic radical such as phenyl or naphthyl to which X and the piperazine are attached on different carbons, and which itself is optionally substituted by a straight or branched C¿1-6? alkyl radical, alkoxy (OR¿4?) or halogen.
La présente invention concerne les composés de formule (I) dans laquelle: Ar1 représente un résidu aromatique tel qu'un phényle, un naphtyle, un pyridyle pouvant être diversement substitués, ou un hétérocycle pouvant éventuellement être diversement substitué; A-B représente CH-CH2 ou C=CH; X représente O, NH, CH2O ou CH2-NH. Ar2 représente un radical aromatique tel qu'un phényle ou un naphtyle auquel X et la pipérazine sont attachés sur des carbones différents et pouvant être lui-même diversement substitué par un radical alkyle ramifié ou linéaire comprenant de 1 à 6 atomes de carbone, un alcoxy (OR4), ou un halogène.
Halazy Serge
Jorand-Lebrun Catherine
Marien Marc
Moret Chantal
Pauwels Peter
Pierre Fabre Medicament
Swabey Ogilvy Renault
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1395576