C - Chemistry – Metallurgy – 07 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
C
C07C 321/30 (2006.01) C07C 327/22 (2006.01) C07D 303/34 (2006.01) C08F 228/02 (2006.01) C08G 18/38 (2006.01) C08G 75/02 (2006.01)
Patent
CA 2203259
Novel sulfur compounds represented by general formula (I) wherein n represents an integer of 0 to 2 and R represents hydrogen, vinyl, methacryloyl, vinylbenzyl, glycidyl, acryloyl or allyl, provided the case where n is 0 to R is hydrogen is excluded. The compounds can be copolymerized with various comonomers to give excellent cured articles having a high refractive index. They are therefore usable as extremely useful monomers for producing optical materials, coating materials, adhesives, sealants, and so forth having excellent physical properties.
La présente invention concerne des composés soufrés représentés par la formule générale (I). Dans cette formule, n représente un entier valant de 0 à 2, et R représente un hydrogène, vinyle, métacryloyle, ou allyle dans le cas où si n vaut 0, il est exclu que R soit hydrogène. Ces composés peuvent être copolymérisés avec divers comonomères donnant ainsi d'excellents articles durcis à indice élevé de réfraction. De tels composés conviennent particulièrement comme monomères destinés à la production de matériaux optiques, de matériaux de revêtement, d'adhésifs, d'agents étanchéifiants, etc. dotés d'excellents propriétés physiques.
Nakano Masahito
Suzuki Michio
Yamamoto Katsumasa
Kirby Eades Gale Baker
Sumitomo Seika Chemicals Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1805194