C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 211/00 (2006.01) C07D 211/46 (2006.01) C07D 211/58 (2006.01) C08G 69/00 (2006.01) C08G 69/04 (2006.01) C08G 69/16 (2006.01) C08G 69/44 (2006.01) C08G 69/48 (2006.01) C08K 5/3435 (2006.01)
Patent
CA 2427646
Oligomeric compounds and methods of making the compound having formula (II) wherein i, j, k, and l are integers from about 0 to 300 and the sum of i, j, k, and l is greater than 2, wherein the units F, F', and T are derived from one or more multi-functional carbonyl compounds of general structure (IV): DO- CO-CRaRb-(-CRcRd-)n-NH-(Y)m-CO-OD wherein n is an integer from 1 to 15, m is either 0 or 1; Ra, Rb, Rc, and Rd, are each a hydrogen or a hydrocarbyl group; Y is CO-(CReRf)p, wherein Re and Rf are each a hydrogen or hydrocarbyl group and p is zero or an integer from 1 to 20 or CO-C6-H4-, wherein the substitution pattern on the phenylene group is an ortho, meta, or para substitution pattern, and one or more of the hydrogens of the phenylene group may be subtituted by a hydrocarbyl group or a functional group; and D is a hydrocarbyl group and the units E, E' and S are derived from one or more 1- substituted piperidin-4-ol or 4-aminopiperidines of general structure wherein Z is OH or NHG, wherein G is H or C1-C12 alkyl, R1 is -(CH2)s-OH, -(CH2)s-NH2, C1-C18 hydroxyalkoxy or C5-C12 hydroxycycloalkoxy; wherein s is an integer from 1 to 10; R2 represents hydrogen, C1-C8 alkyl, or benzyl; R3, R4, R5, and R6 are each a hydrogen, C1-C8 alkyl, benzyl or phenethyl, or two geminal R moieties, which together with the carbon to which they are attached form a C5- C10 cycloalkyl. The compounds are useful for stabilizing polymer compositions against photo- and thermal degradation.
Composés oligomères et procédés de production desdits composés de formule (II) dans laquelle i, j, k et l représentent des nombres entiers d'environ 0 à 300, la somme de i, j, k et l est supérieure à 2, et les unités F, F' et T sont dérivées d'un ou plusieurs composés carbonyle multifonctionnels de structure générale: DO-CO-CR?a¿R?b¿-(-CR?c¿R?d¿-)¿n?-NH-(Y)¿m?-CO-OD dans laquelle n représente un nombre entier de 1 à 15, m représente 0 ou 1; R?a¿, R?b¿, R¿c¿ et R?d¿ représentent chacun un hydrogène ou un groupe hydrocarbyle ; Y représente CO-(CR?e¿R?f¿)¿p?, dans laquelle R?e¿ et R?f¿ représentent chacun hydrogène ou un groupe hydrocarbyle et p représente zéro ou un nombre entier de 1 à 20, ou CO-C¿6?-H¿4?-, dans laquelle le modèle de substitution sur le groupe phénylène est un modèle de substitution ortho, méta, ou para, et un ou plusieurs des hydrogènes du groupe phénylène peuvent être substitués par un groupe hydrocarbyle ou un groupe fonctionnel ; et D représente un groupe hydrocarbyle et les unités E, E' et S sont dérivées d'un ou de plusieurs pipéridin-4-ols à substitution 1 ou 4-aminopipéridines de structure générale (A) dans laquelle Z représente OH ou NHG, G représentant H ou alkyle C¿1?-C¿12? ; R?1¿ représente -(CH¿2?)¿s?-OH, -(CH¿2?)¿s?-NH¿2?, hydroxyalcoxy C¿1?-C¿18? ou hydroxycycloalcoxy C¿5?-C¿12?, s représentant un nombre entier de 1 à 10; R?2¿ représente hydrogène, alkyle C¿1?-C¿8? ou benzyle; R?3¿, R?4¿, R?5¿ et R?6¿ représentent chacun hydrogène, alkyle C¿1?-C¿8?, benzyle ou phénéthyle, ou deux fractions R jumelles qui forment ensemble, avec le carbone auxquelles elles sont attachées, un cycloalkyle C¿5?-C¿10?. Lesdits composés sont utiles pour stabiliser des compositions polymères contre la photodégradation ou la dégradation thermique.
Gupta Ram Baboo
Sassi Thomas Patrick
Cytec Technology Corp.
Smart & Biggar
LandOfFree
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