Optoelectronic and photonic devices

G - Physics – 02 – F

Patent

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G02F 1/01 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01) G02F 1/065 (2006.01) G02F 1/315 (2006.01)

Patent

CA 2367038

Optoelectronic and photonic devices (100) are formed by employing polymer materials that have a lower glass transition temperature (Tg) than the nominal operating temperature. By using such materials, the local or segmental mobility is increased so that local stress is eliminated or minimized on the polymer material, making performance more robust. The current invention involves use of polymer in an optical device (100) in an operating temperature range in the region above Tg, where the polymer segments between crosslinks are allowed local freedom of movement; however, the large-scale movement of the material may be restricted by the crosslinked structure of the polymer material. The temperature operating point of a device constructed according to the invention is thus preferably distance from both the viscoelastic region near Tg and from the glassy region below Tg.

L'invention concerne des dispositifs optoélectroniques et photoniques (100) fabriqués à l'aide de matières polymères qui présentent une température de transition vitreuse inférieure (Tg) à la température de fonctionnement nominale. L'utilisation des ces matières permet d'augmenter la mobilité locale ou segmentaire et, ainsi, de supprimer ou de réduire les contraintes locales sur la matière polymère, ce qui permet d'obtenir une performance plus robuste. Selon l'invention, on utilise un polymère dans un dispositif optique (100) dans une plage de température de fonctionnement située dans la zone se trouvant au-dessus de Tg. Les segments polymères situés entre les réticulations jouissent d'une liberté de mouvement locale mais le mouvement à grande échelle de la matière peut se trouver restreint par la structure réticulée de la matière polymère. Le point de fonctionnement de la température d'un dispositif construit selon l'invention se trouve, par conséquent, à distance de la zone viscoélastique située à proximité de Tg et de la zone vitreuse située en-dessous de Tg.

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