C - Chemistry – Metallurgy – 08 – G
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
G
402/27, 204/91.3
C08G 77/04 (2006.01) B05D 3/06 (2006.01) B05D 5/08 (2006.01) C08G 77/20 (2006.01) C08G 77/38 (2006.01) C08J 3/28 (2006.01) C09D 183/04 (2006.01)
Patent
CA 2030335
L'invention concerne une composition organo- polysiloxane à reste cyclopentenyle réticulable en couche mince par exposition à la lumière ultraviolette, laquelle comporte 100 parties d'un diorganopolysiloxane comportant par molécule au moins 3 restes cyclopentenyle, chacun de ces restes étant directement lié, par une liaison SiC, à un atome de silicium différent, et une quantité efficace d'au moins un photoinitiateur. Ces compositions sont applicables à la réalisation de revêtements notamment la réalisation de revêtements anti-adhérents sur papier, et à l'encapsulation de circuits imprimés.
Cavezzan Jacques
Frances Jean-Marc
Rhone-Poulenc Chimie
Robic
LandOfFree
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