C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
167/217, 260/263
C07D 498/04 (2006.01) A61K 31/495 (2006.01) C07D 213/74 (2006.01) C07D 401/12 (2006.01) C07D 401/14 (2006.01)
Patent
CA 2022732
ABREGE DESCRIPTIF Composé de formule générale (I) : Image (I) dans laquelle : R1 et R2 représentent chacun un atome d'hydrogène ou forment avec l'oxygène et l'azote qui les portent un chaînon-O-CO-N, W représente un atome d'halogène ou un groupement alkyle ou alkoxy inférieur éventuellement substitué par un ou plusieurs atomes d'halogène tel que trifluorométhyle, et m étant compris entre 0 et 3, A représente un goupement alcoyle inférieur linéaire ou ramifié, Ar représente un groupement aryle ou hétéroaryle éventuellement substitué par un ou plusieurs atomes d'halogène ou par un ou plusieurs groupements alkyle inférieur, hydroxy, hydroxysulfonyloxy, ou alkoxy inférieur ou aryloxy éventuellement substitués par un ou plusieurs atomes d'halogène tel que le groupement trifluorométhyle, étant entendu que par radical alkyle inférieur ou alkyloxy inférieur, on entend un groupement alkyle linéaire ou ramifié comprenant de 1 à 6 atomes de carbone, et que par groupements aryle ou hétéroaryle, on entend des groupements mono ou bicycliques insaturés comprenant de 5 à 12 atomes intégrant ou non dans leur squelette carbone, un, deux ou trois hétéroatomes choisis parmi azote, oxygène ou soufre, leurs isomères, ainsi que leurs sels d'addition à un acide pharmaceutiquement acceptable et lorsque R1 et R2 représentent un atome d'hydrogène, leurs sels d'addition à une base pharmaceutiquement acceptable. Préparation de ces composés, compositions pharmaceutiques les renfermant, et pharmacologie de ces composés. Ces composés possèdent une activité analgésique pure de haut niveau.
Bonnet Jacqueline
Flouzat Christine
Guillaumet Gerald
Science Et Organisation
Swabey Ogilvy Renault
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1731967