C - Chemistry – Metallurgy – 07 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
D
C07D 409/14 (2006.01) B41C 1/00 (2006.01) B41N 1/12 (2006.01) C07D 209/86 (2006.01) C07D 335/16 (2006.01) C08F 2/50 (2006.01) G03F 7/031 (2006.01) G02B 5/20 (2006.01) G11B 7/244 (2006.01)
Patent
CA 2684931
Compounds of the formula (I), wherein A1 is formula (II); A2 is formula (III); A3 is formula (IV); A4 is formula (V); w, x, y and z independently of each other are an integer from 0-4, provided that the sum of x+y+z is an integer from 2-4, corresponding to the valency of Q; M1, M2, M3 and M4 for example are a direct bond, CO or O; Y for example is a direct bond or S; Q is a (x+y)-valent linking group; R1 is for example hydrogen, C1-C20alkyl or phenyl or naphthyl; R2 and R"2 for example are is hydrogen or C1-C20alkyl; R3, R4, R'3, R'4, R"3 and R"4 for example are hydrogen, halogen, phenyl, or C1-C20alkyl; and R24 is for example a direct bond; exhibit an unexpectedly good performance in photopolymerization reactions.
L'invention concerne des composés représentés par la formule (I), dans laquelle A1 est la formule (II); A2 est la formule (III); A3 est la formule (IV); A4 est la formule (V); w, x, y et z sont indépendamment un entier compris entre 0 et 4, à condition que la somme de x + y + z soit un entier compris entre 2 et 4, correspondant à la valence de Q; M1, M2, M3 et M4 sont par exemple une liaison directe, CO ou O; Y est par exemple une liaison directe ou S; Q est un groupe de liaison à valence (x+y); R1 est par exemple hydrogène, C1-C20 alkyle, phényle ou naphtyle; R2 et R'2 sont par exemple hydrogène ou C1-C20alkyle; R3, R4, R'3, R'4, R'3 et R'4 sont par exemple hydrogène, halogène, phényle, ou C1-C20 alkyle; et R24 est par exemple une liaison directe. Ces composés présentent une efficacité étonnamment bonne dans des réactions de photopolymérisation.
Kura Hisatoshi
Matsumoto Akira
Ohwa Masaki
Tanabe Junichi
Basf Se
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1921058