C - Chemistry – Metallurgy – 08 – K
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
K
C08K 5/00 (2006.01) B65D 1/02 (2006.01) B65D 81/26 (2006.01) C07D 209/44 (2006.01) C08K 5/098 (2006.01) C08K 5/3417 (2006.01) C08L 67/02 (2006.01)
Patent
CA 2687081
The invention relates to compounds of the structure of formula I and II: where X is selected from the group consisting of O, S and NH; Y, A and B are independently selected from the group consisting of N and CH; D, E and F are independently selected from the group consisting of CH, N, O and S; the symbol - represents a single or a double bond; and R1, R2 and R3 are independently selected from the group consisting of H, electron withdrawing groups and electron releasing groups. In other embodiments, the compounds are used as oxygen scavengers and in barrier compositions and articles.
L'invention concerne des composés ayant une structure de formule I et II : dans lesquelles X est sélectionné dans le groupe comprenant O, S et NH; Y, A et B sont chacun indépendamment sélectionnés dans le groupe comprenant N et CH; D, E et F sont chacun indépendamment sélectionnés dans le groupe comprenant CH, N, O et S; le symbole - représente une liaison simple ou double; et R1, R2 et R3 sont chacun indépendamment sélectionnés dans le groupe comprenant H, des groupes attracteurs d'électrons et des groupes donneurs d'électrons. Dans d'autres modes de réalisation, les composés sont utilisés en tant qu'absorbeurs d'oxygène et dans des compositions et articles barrières.
Deshpande Girish Nilkanth
Ensley Michael W.
Weipert Paul David
Bereskin & Parr Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
Constar International Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1674109