Oxygen transport membrane for silicon oxide plant

C - Chemistry – Metallurgy – 01 – B

Patent

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C01B 15/14 (2006.01) B01D 53/22 (2006.01) C01B 13/02 (2006.01) C01B 33/18 (2006.01) C01B 33/20 (2006.01) C25B 13/00 (2006.01) C25C 7/04 (2006.01)

Patent

CA 2405876

An integrated system for producing high purity silicon dioxide comprising: a source (2) of an oxygen-containing feed gas, an oxygen transport membrane cell (1) containing and oxygen-selective transport membrane (15), said membrane (15) being at an elevated temperature effective for separation of oxygen in said feed gas by transporting oxygen ions from said feed gas through said membrane (15) to form a purified oxygen permeate, while retaining an oxygen- depleted, impurity-containing retentate on a cathode side therefor, a passageway (11) from said source (2) to the cathode side of said membrane cell (1), a silicon source (25), and a silicon oxidation furnace (5), in communication with an anode side of said membrane cell (1), for reaction of said purified oxygen permeate with silicon at an elevated reaction temperature effective for said reaction, in order to produce said high purity silicon reaction, in order to produce said high purity silicon dioxide.

L'invention concerne un système intégré permettant la production de dioxyde de silicium pur. Ce système comprend une source d'alimentation (2) de gaz contenant de l'oxygène, un électrolyseur (1) à membrane de transport d'oxygène contenant une membrane (15) sélective pour le transport de l'oxygène, cette membrane (15) se trouvant à une température élevée permettant une séparation efficace de l'oxygène contenu dans le gaz d'alimentation par transport des ions d'oxygène contenus dans ce gaz à travers ladite membrane (15), afin de former un perméat d'oxygène purifié tout en retenant un résidu dépourvu d'oxygène, contenant des impuretés du côté cathode, un passage (11) entre la source (2) et le côté cathode de l'électrolyseur (1) à membrane, une source (25) de silicium, et un four (5) d'oxydation de silicium qui communique avec le côté anode de l'électrolyseur (1) à membrane, et permet de faire réagir ledit perméat d'oxygène purifié avec le silicium à une température élevée permettant d'activer cette réaction, afin de produire du dioxyde de silicium pur.

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