Pecvd coating using an organosilicon precursor

C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C

Patent

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C23C 16/30 (2006.01) C23C 14/40 (2006.01) C23C 16/24 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01)

Patent

CA 2761872

A method for coating a substrate surface by PECVD is provided, the method comprising generating a plasma from a gaseous reactant comprising an organosilicon precursor and optionally O2. The lubricity, hydrophobicity and/or barrier properties of the coating are set by setting the ratio of the O2 to the organosilicon precursor in the gaseous reactant, and/or by setting the electric power used for generating the plasma. In particular, a lubricity coating made by said method is provided. Vessels coated by said method and the use of such vessels protecting a compound or composition contained or received in said coated vessel against mechanical and/or chemical effects of the surface of the uncoated vessel material are also provided.

L'invention porte sur un procédé de revêtement d'une surface de substrat par dépôt en phase vapeur par procédé chimique assisté par plasma (PECVD). Le procédé comprend la génération d'un plasma à partir d'un réactif gazeux comprenant un précurseur d'organosilicium et facultativement O2. Le pouvoir lubrifiant, l'hydrophobicité et/ou les propriétés de barrière du revêtement sont réglées par le réglage du rapport de l'O2 au précurseur d'organosilicium dans le réactif gazeux, et/ou par la réglage de la puissance électrique utilisée pour générer le plasma. En particulier, l'invention porte sur un revêtement à pouvoir lubrifiant obtenu par ledit procédé. L'invention porte également sur des récipients revêtus par ledit procédé et sur l'utilisation de tels récipients protégeant un composé ou composition contenu ou reçu dans ledit récipient revêtu à l'encontre des effets mécaniques et/ou chimiques de la surface du matériau de récipient non revêtu.

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