G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/038 (2006.01)
Patent
CA 2555544
A permanent photoresist composition comprising: (A) one or more bisphenol A- novolac epoxy resins according to Formula I; wherein each group R in Formula I is individually selected from glycidyl or hydrogen and k in Formula I is a real number ranging from 0 to about 30; (B) one or more epoxy resins selected from the group represented by Formulas BIIa and BIIb; wherein each R1, R2 and R3 in Formula BIIa are independently selected from the group consisting of hydrogen or alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms and the value of p in Formula BIIa is a real number ranging from 1 to 30; the values of n and m in Formula BIIb are independently real numbers ranging from 1 to 30 and each R4 and R5 in Formula BIIb are independently selected from hydrogen, alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, or trifluoromethyl; (C) one or more cationic photoinitiators (also known as photoacid generators or PAGs); and (D) one or more solvents.
L'invention concerne une composition de résist permanente qui comprend: (A) une ou plusieurs résines bisphénol A-novolac époxy, selon la formule I; chaque groupe R de la formule I peut être individuellement glycidyle et hydrogène, et k est un nombre réel compris entre 0 et environ 30; (B) une ou plusieurs résines époxy pouvant appartenir au groupe de formule BIIa et BIIb; chaque R¿1?, R¿2? et R¿3? de la formule BIIa peut appartenir indépendamment à l'ensemble formé par les groupes hydrogène ou alkyle ayant entre 1 et 4 atomes de carbone, et p de ladite formule est un nombre réel compris entre 1 et 30; n et m dans la formule BIIb peuvent être indépendamment un nombre réel compris entre 1 et 30, et chaque R4 et R5 de ladite formule peut être indépendamment un groupe hydrogène ou alkyle ayant entre 1 et 4 atomes de carbone, ou trifluorométhyle; (C) un ou plusieurs photoamorceurs (encore appelés générateurs photoacides ou générateurs PAG); et (D) un ou plusieurs solvants.
Docanto Manuel
Honda Nao
Johnson Donald
Mori Satoshi
Weber William
Microchem Corp.
Nippon Kayaku Co. Ltd.
Ogilvy Renault Llp/s.e.n.c.r.l.,s.r.l.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1528829