G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 5/18 (2006.01) G02B 5/26 (2006.01) G02B 6/136 (2006.01)
Patent
CA 2580820
The invention relates to an optical fiber-processing phase mask which enables a phase mask with a groove pitch varying in a position-dependent manner to be easily obtained by electron beam writing, and its fabrication method. In the optical fiber-processing phase mask comprising on one surface of a transparent substrate a repetitive pattern of grooves (26) and strips (27) located in a grating form, so that an optical fiber is irradiated with diffracted light according to the repetitive pattern to make a diffraction grating in said optical fiber by an interference fringe of diffracted light of different orders, a plurality of patterns (A1 to A3) having a linearly or nonlinearly increasing or decreasing pitch are juxtaposed, with a constant width ratio between the grooves (26) and the strips (27). The phase mask is fabricated by carrying out writing while the groove-and-strip patterns with a different pitch are juxtaposed.
L'invention concerne un masque de phase utilisé dans le façonnage de fibres optiques qui permet à un masque de phase comportant un pas de rainures variant selon la position d'une manière à l'obtenir facilement par écriture par faisceau d'électrons, et sa méthode de fabrication. Dans le masque de phase utilisé dans le façonnage de fibres optiques, un côté d'un substrat transparent comporte un motif répétitif de rainures (26) et de saillies (27) en forme de treillis de sorte qu'une fibre optique est irradiée avec une lumière diffractée conformément au motif répétitif pour fabriquer un réseau de diffraction dans ladite fibre optique à travers les franges d'interférence de lumière diffractée de différents ordres; une pluralité de motifs juxtaposés (A1 à A3) possèdent un rapport constant entre les largeurs des rainures (26) et des saillies (27) disposées de façon parallèle et un pas augmentant ou diminuant de façon linéaire ou non linéaire. Le masque de phase est fabriqué par écriture alors que les motifs à rainures et saillies ayant un pas différent sont juxtaposés.
Kurihara Masaaki
Segawa Toshikazu
Cassan Maclean
Dai Nippon Printing Co. Ltd.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1596510