C - Chemistry – Metallurgy – 07 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
07
F
C07F 9/173 (2006.01) C07F 9/09 (2006.01) C07F 9/113 (2006.01) C07F 9/165 (2006.01) C08F 228/02 (2006.01) C08F 230/02 (2006.01)
Patent
CA 2044492
ABREGE DESCRIPTIF Composes acryliques et méthacryliques choisis parmi ceux de formule: Image ceux de formule: Image et ceux de formule: Image R1 est choisi parmi l'atome d'hydrogène et le radical méthyle, A est choisi parmi les radicaux (CH2)n pour lesquels X et Y représentent le soufre d'oxygène, n est un nombre entier de 2 à 12, et le radical -(CH2CH2O)d-CH2CH2-, d étant un nombre entier entre 2 et 12, m est un nombre entier allant de 1 à 3, et R représente un alkyle ou -(CH2)pS alkyl, Z est choisi parmi l'atome d'hydrogène, les radicaux R2QH, R2 étant un radical alkyle ayant de 2 à 12 atomes de carbone et Q étant choisi parmi les atomes d'oxygène et de soufre, et les atomes des métaux des groupes IA, IIA, IIIA, IB, IIB, VIB, VIIB et VIII de la Classi- fication Périodique, avec la condition que Z est choisi parmi l'atome d'hydrogène et les radicuax R2OH lorsque m = 1 et que m est la valence de Z lorsque Z est un métal. Procédé de préparation de ces composés. Ces composes sont intéressants en ce qu'ils contiennent du phosphore et du soufre.
Cerf Martine
Mieloszynski Jean-Luc
Paquer Daniel
Atochem
Swabey Ogilvy Renault
LandOfFree
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