C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
C08F 20/30 (2006.01) C08F 8/00 (2006.01) C08F 20/34 (2006.01) C08F 20/36 (2006.01) C08F 246/00 (2006.01) C09B 69/10 (2006.01) G02F 1/00 (2006.01) G03H 1/02 (2006.01) G11B 7/24 (2006.01) G11B 7/245 (2006.01) G11C 17/00 (2006.01)
Patent
CA 2255935
It is possible to produce extremely rapidly photo-addressable storage media from inherently slowly photo-addressable polymers by irradiating the substrates over a large area with a light source suitable for conventional inscription so that an optical anisotropy, i.e. a double refraction with a preferential direction in the plane of the substrate, occurs. If the substrates prepared in this way are briefly intensively irradiated, the pattern is inscribed extremely rapidly and permanently. The invention also relates to novel side-chain polymers in which high optical anisotropy can be generated by irradiation. This optical anisotropy is very heat stable.
Des supports d'enregistrement photo-adressables extrêmement rapidement peuvent être obtenus à partir des polymères photo-adressables lentement en soi, du fait que les substrats sont soumis, sur une large surface, à l'action d'une source lumineuse appropriée à la description conventionnelle, de manière à entraîner une anisotropie optique, c.-à-d. une biréfringence avec une direction préférentielle dans le plan du substrat. Lorsque des substrats ainsi préparés sont soumis brièvement de manière intense à l'action d'une source lumineuse, le motif est inscrit extrêmement rapidement et de manière durable. L'invention concerne également de nouveaux polymères à chaînes latérales dans lesquels une anisotropie optique élevée peut être produite par rayonnement. Cette anisotropie optique est très stable à la chaleur.
Berneth Horst
Claussen Uwe
Kostromine Serguei
Neigl Ralf
Vedder Hans-Joachim
Aktiengesellschaft Bayer
Certego Gmbh
Fetherstonhaugh & Co.
LandOfFree
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