C - Chemistry – Metallurgy – 08 – J
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
J
C08J 7/18 (2006.01) B01D 71/00 (2006.01) B01J 19/12 (2006.01)
Patent
CA 2473220
A process for modifying a polymeric photoactive sulfone membrane includes placing the membrane into the presence of acrylic acid monomer dissolved in a solution and without sensitizer or free radical initiator and exposing the membrane to non-ionizing UV radiation for modifying the membrane by chemical grafting of the monomer at the surface of the membrane. The membrane can be polysulfone, polyethersulfone or polyarylsulfone. The radiation is selected to have an energy below that at which chain scission occurs and above that at which maximum grafting occurs. The process includes washing the modified membrane in a washing agent containing ethanol, glycol, ether, acid, hydrocarbon, or mixtures thereof, to wash homopolymer formed in the solution from the modified membrane, but preferably ethanol.
La présente invention concerne un procédé pour modifier une membrane polymère en sulfone photoactive. Ce procédé consiste à placer la membrane en présence de monomère acide acrylique dissous dans une solution, sans sensibilisateur, ni initiateur de radicaux libres, puis à exposer la membrane à un rayonnement UV non ionisant, afin de modifier la membrane par greffage chimique du monomère à la surface de la membrane. La membrane peut être en polysulfone, polyéthersulfone ou polyarylsulfone. Le rayonnement est choisi de façon à avoir une énergie inférieure à celle à laquelle une scission de chaîne a lieu et supérieure à celle à laquelle un greffage maximal a lieu. Le procédé consiste à laver la membrane modifiée dans un agent de lavage contenant de l'éthanol, du glycol, de l'éther, un acide, un hydrocarbure ou des mélanges de ceux-ci, de préférence de l'éthanol, afin de laver un homopolymère formé dans la solution de la membrane modifiée.
Belfort Georges
Taniguchi Masahide
Moffat & Co.
Rensselaer Polytechnic Institute
LandOfFree
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