C - Chemistry – Metallurgy – 40 – B
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
40
B
C40B 40/06 (2006.01) C07H 1/08 (2006.01) C07H 21/00 (2006.01) C12Q 1/68 (2006.01) G01N 33/543 (2006.01)
Patent
CA 2321098
A photoactivatable nucleic acid derivative composition in which one or more photoreactive group(s) are bound to a natural or synthetic nucleic acid. The photoreactive groups can be bound to the nucleic acid before, during or after its formation, and can thereafter be activated in order to attach the nucleic acid to another molecule, e.g., to the surface of a solid support. Also described is a method of preparing such a composition, and a method of using such a composition to attach the nucleic acid to another molecule, such as that provided by the surface of a substrate used to prepare a nucleic acid chip by photolithographic techniques.
L'invention concerne une composition de dérivés d'acides nucléiques photo-activables dans laquelle un ou plusieurs groupes photoréactifs sont liés à un acide nucléique naturel ou de synthèse. Les groupes photoréactifs peuvent être liés à l'acide nucléique avant, pendant ou après sa formation, et ils peuvent ensuite être activés de manière à fixer l'acide nucléique à une autre molécule, par exemple, à la surface d'un support solide. L'invention concerne également un procédé de préparation d'une telle composition, ainsi qu'un procédé d'utilisation de cette composition pour fixer l'acide nucléique à une autre molécule, notamment à la surface offerte par un substrat utilisé pour préparer une puce d'ADN par des techniques de photolithographie.
Guire Patrick E.
Opperman Gary W.
Swanson Melvin J.
Goudreau Gage Dubuc
Surmodics Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1600389