C - Chemistry – Metallurgy – 09 – D
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
09
D
C09D 5/44 (2006.01) C08K 5/16 (2006.01) C08K 5/34 (2006.01) C08K 5/3432 (2006.01) C08L 63/10 (2006.01) C09D 7/12 (2006.01) C09D 163/00 (2006.01) C09D 175/04 (2006.01) C09D 201/02 (2006.01) C25D 13/10 (2006.01)
Patent
CA 2075651
An electrodepositable primer composition having improved delamination resistance with regard to automotive topcoats is disclosed. The composition is particularly useful in conjunction with topcoats which transmit ultraviolet radiation. The composition includes an ionic resin and a hindered amine light stabilizer (HALS) which is preferably a hindered aminoether light stabilizer. A preferred hindered aminoether light stabilizer is bis-(1-octyloxy- 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl)sebacate. The invention also includes a process for coating a substrate by applying the above-described primer composition and subsequently applying a topcoat. The process can alternatively include applying a standard primer composition to a substrate and subsequently applying a HALS compound to the electrodeposited substrate.
La divulgation concerne une composition primaire résistant mieux à la délamination, dans le domaine des couches de finition pour automobiles. La composition est particulièrement utile dans le cas des couches de finition transmettant le rayonnement ultraviolet. La composition comprend une résine ionique et un photostabilisateur à base d'amine avec empêchement stérique (HALS), qui est de préférence un photostabilisateur à base d'aminoéther avec empêchement stérique. Comme photostabilisateur à base d'aminoéther avec empêchement stérique, on préfère le bis-(1-octyloxy- 2,2,6,6-tétraméthyl-4-pipéridinyl)sébaçate. L'invention porte également sur une méthode pour revêtir un substrat en appliquant d'abord la composition primaire décrite ci-dessus, suivie de la couche de finition. Le procédé peut également consister à appliquer une composition primaire normalisée sur un substrat, puis à appliquer un composé HALS sur le substrat déposé par électrolyse.
Corrigan Victor G.
Gruber Gerald W.
Polack Michael A.
Zwack Robert R.
Borden Ladner Gervais Llp
Ppg Industries Inc.
Ppg Industries Ohio Inc.
LandOfFree
Photodegradation-resistant electrodepositable primer... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Photodegradation-resistant electrodepositable primer..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Photodegradation-resistant electrodepositable primer... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-2049470