G - Physics – 01 – M
Patent
G - Physics
01
M
G01M 5/00 (2006.01) G01B 11/16 (2006.01) G01L 1/24 (2006.01)
Patent
CA 2668813
In accordance with an aspect of the present invention, there is provided a photoelastic coating for structural monitoring comprising an optically translucent or transparent photoelastic layer. The photoelastic coating is applied to the structure as a solvent-based liquid or gel that can be cured without heating. The photoelastic properties of the photoelastic layer can be used to detect stress and strain or plastic deformation in the structure using photoelastic techniques. In accordance with another aspect of the invention, there is provided a method of structural monitoring using a photoelastic structural monitoring coating. The method comprises the steps of providing a structure for which structural monitoring is desired, applying a photoelastic layer to said structure as a solvent-based liquid or gel, and curing said photoelastic layer in place on said structure. The method further comprises subjecting the structure to a load and inspecting the structure using photoelastic techniques to detect for stress and strain in the photoelastic layer. Presence of fringe patterns in the reflected light from said photoelastic layer indicates the presence of stress and strain in said photoelastic layer. Stress and strain in said photoelastic layer indicates stress and strain or plastic deformation in the underlying structure.
Selon un aspect de la présente invention, on propose un revêtement photoélastique destiné à la surveillance des structures, composé d'une couche photoélastique translucide ou transparente. Le revêtement photoélastique est appliqué sur la structure sous la forme d'une solution liquide ou d'un gel pouvant être durci(e) sans traitement thermique. Les propriétés photoélastiques de la couche photoélastique peuvent être employées pour détecter les contraintes ou les déformations du plastique dans la structure grâce à des techniques photoélastiques. Selon un autre aspect de l'invention, on propose une méthode de surveillance des structures faisant appel à un revêtement photoélastique de surveillance des structures. La méthode consiste à déterminer sur quelle structure on veut soumettre à une surveillance, à appliquer une couche photoélastique sur la structure en question sous la forme d'une solution liquide ou d'un gel, et à faire durcir la couche photoélastique en question une fois en place sur la structure visée. La méthode consiste ensuite à soumettre la structure à une charge et à l'inspecter à l'aide de techniques photoélastiques pour détecter les contraintes dans la couche photoélastique. La présence de profil de franges dans la lumière réfléchie par la couche photoélastique en question indique la présence de contraintes dans cette couche. Les contraintes détectées dans la couche photoélastique indiquent une contrainte ou une déformation dans la structure sous-jacente.
Lam Duhane
Na
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1913677