G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/028 (2006.01) G03F 7/038 (2006.01) G03F 7/16 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01) G03F 7/26 (2006.01)
Patent
CA 2048164
An electrodepositable photoresist composition comprising an aqueous dispersion of: (a) a water-dispersible neutralized cationic polymeric material having a pendant unsaturation, (b) a nonionic unsaturated material and (c) a photoinitiator; characterized in that it can form smooth, thin and pinhole free coatings and further characterized in that the film is capable of being selectively insolubilized by patterned radiation exposure such that the unexposed portion of the film is soluble in dilute aqueous acid and the exposed portion is insoluble in said aqueous acid.
Divulgation d'une composition résineuse photosensible électrolytiquement déposable comprenant une dispersion aqueuse de : a) une matière polymère cationique neutralisée hydrodispersable incomplètement insaturée, b) une matière insaturée non ionique et c) un photoamorceur; caractérisée par le fait qu'elle peut former des revêtements lisses, minces, exempts de piqûres et caractérisée de plus par le fait que le film peut être rendu sélectivement insoluble à l'aide d'une exposition à des radiations suivant un motif, de telle manière que la portion non exposée du film soit soluble dans une solution aqueuse d'acide dilué et que la portion exposée soit insoluble dans ladite solution.
F. II Kahle Charles
Nakajima Masayuki
Olson Kurt G.
Sandala Michael G.
Zawacky Steven R.
Borden Ladner Gervais Llp
Ppg Industries Inc.
Ppg Industries Ohio Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1670254