G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/09 (2006.01) G03F 7/027 (2006.01) G03F 7/36 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01)
Patent
CA 2207432
The present invention provides a lithographic printing plate comprising a substrate and a photocurable polymeric photoresist, such as those based on free-radical initiated photocuring mechanisms. To constrain detrimental and undesired activity of excess free radicals, an embodiment of the printing plate is further provided with a free-radical regulating system. In a particular embodiment, the free-radical regulating system is provided as an overcoat, the overcoat being a light-transmissive overcoat and comprising a polymer having a pendant free-radical trapping group. A particular polymer for the overcoat has formula (a) wherein, m is from approximately 20 % by weight to approximately 95 % by weight, and n is from approximately 0 % by weight to approximately 75 % by weight. Capable of deactivating free-radicals actinically generated in the photoresist subsequent to exposure, the polymer is soluble in fountain or ink solution and incompatible with the photoresist.
Cette invention porte sur une plaque lithographique, comprenant un substrat et une photorésine polymère photodurcissement, comme celles faisant appel à des mécanismes de photodurcissement par polymérisation radicalaire. Dans le but de restreindre une activité non souhaitée et préjudiciable des radicaux libres excédentaires, un mode de réalisation de la plaque d'impression prévoit l'addition d'un système de régulation de radicaux libres. Dans un mode de réalisation particulier, ce système est constitué d'une couche de recouvrement translucide, comprenant un polymère possédant un groupe pendant de piégeage de radicaux libres. Un polymère particulier destiné à cette couche est représenté par la formule (a) dans laquelle m a un pourcentage pondéral compris entre approximativement 20 et 95 et n, un pourcentage pondéral compris entre approximativement 0 et 75. Ce polymère, qui est capable de désactiver des radicaux libres produits de manière actinique dans la photorésine à la suite d'une exposition, est soluble dans une solution de mouillage ou d'encre, et n'est pas compatible avec la photorésine.
Bi Daoshen
Fitzgerald Maurice J.
Kearney Frederick R.
Liang Rong-Chang
Schwarzel William C.
Latran Technologies Llc
Polaroid Corporation
Smart & Biggar
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-2067852