G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/039 (2006.01) C08K 5/42 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) H05K 3/00 (2006.01) H05K 3/06 (2006.01)
Patent
CA 2238833
The invention relates to photosensitive compositions capable of being developed as positives. Conventional compositions are either insufficiently photosensitive or unsuitable for use on copper surfaces such as those in printed circuit boards, since the exposed regions of the composition layer cannot be completely removed during development and create problems in the subsequent metal-coating or etching operations. These drawbacks are not found with the claimed photosensitive compositions. Various compositions are described containing photo-acid generators and a polymer resin containing acid- cleavable side groups and formed by polymerisation of at least three different acrylate or methacrylate monomers.
L'invention concerne des compositions photosensibles pouvant être développées pour donner des positifs. Les compositions traditionnelles présentent une photosensibilité insuffisante ou bien sont inadaptées à l'utilisation sur des surfaces de cuivre, par exemple de cartes imprimées, étant donné que les parties de la couche de composition exposées ne peuvent pas être complètement éliminées lors du développement, ce qui pose des problèmes lors des opérations de métallisation ou d'attaque suivantes. Avec les compositions photosensibles de l'invention on ne rencontre pas ces inconvénients. L'invention concerne différentes compositions contenant des générateurs de photoacide et une résine polymère qui renferme des groupes latéraux aptes à une coupure acide et qui est formée par polymérisation d'au moins trois monomères acryliques ou méthacryliques différents.
Meunier Gilles
Meyer Heinrich
Pirri Rosangela
Urrutia Desmaison Gonzalo
Verzaro Francis
Atotech Deutschland Gmbh
Riches Mckenzie & Herbert Llp
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1414324