Photosensitive composition and lithographic plate...

Details Photosensitive composition and lithographic plate... Photosensitive composition and lithographic plate...

G - Physics

03

F

96/177

G03F 7/00 (2006.01) G03F 7/032 (2006.01)

Patent

CA 1177301

PRECIS DE LA DIVULGATION: L'invention concerne une composition photosensible destinée en particulier, à la réalisation de plaques lithographiques développables par des solutions aqueuses et ne nécessitant qu'un temps très court d'insolation. Cette composition est caractérisée en ce qu'elle comprend une résine époxy-acrylate liquide ou visqueuse, un acrylate ou méthacrylate de polyol et au moins un photo- sensibilisateur. Cette composition et les plaques litho- graphiques de l'invention sont notamment destinées à la reproduction offset.

412661

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