C - Chemistry – Metallurgy – 08 – F
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
08
F
C08F 220/10 (2006.01) C08F 222/10 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01) G02B 6/122 (2006.01) G02B 6/138 (2006.01)
Patent
CA 2498188
A photosensitive resin composition for optical waveguide formation which comprises the following ingredients (A), (B), and (C) as components. This composition is excellent in suitability for patterning, refractive index, heat resistance, transmission characteristic, etc. (A) A di(meth)acrylate having a structure represented by the following general formula (1): (1) (wherein R1 represents -(OCH2CH2)m-, etc.; X represents -C(CH3)2-, etc.; Y represents hydrogen or halogeno; and m is an integer of 0 to 4); (B) a mono(meth)acrylate having a structure represented by the following general formula (2): (2) (wherein R2 represents -(OCH2CH2)p-, etc.; Y represents hydrogen, halogeno, Ph, etc.; and p is an integer of 0 to 4; provided that Ph represents phenyl); and (C) a free-radical photopolymerization initiator.
L'invention concerne une composition de résine photosensible destinée à la formation d'un guide d'ondes optique, comprenant les composants (A), (B) et (C) suivants, à savoir : (A) un di(méth)acrylate ayant une structure représentée par la formule générale (1) (dans laquelle R?1¿ désigne (OCH¿2?CH¿2?)¿m?-, etc. ; X désigne C(CH¿3?)¿2?-, etc. ; Y désigne un hydrogène ou un halogéno ; et m désigne un entier compris entre 0 et 4) ; (B) un mono(méth)acrylate ayant une structure représentée par la formule générale (2) (dans laquelle R?2¿ désigne (OCH¿2?CH¿2?)¿p?-, etc. ; Y désigne un hydrogène, un halogéno, Ph, etc. ; et p désigne un entier compris entre 0 et 4 ; à condition que Ph représente un phényle) ; et (C) un initiateur de photopolymérisation radicalaire.
Eriyama Yuuichi
Takase Hideaki
Jsr Corporation
Smart & Biggar
LandOfFree
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