G - Physics – 03 – F
Patent
G - Physics
03
F
G03F 7/033 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01)
Patent
CA 2521616
The present invention is to obtain without any trouble a photosensitive resin composition, a photosensitive layer and a photosensitive resin printing original plate, which are developable with an aqueous developer, resistant to an aqueous ink and a cosolvent ink, and assured of good image reproducibility. The present invention relates to a photosensitive resin composition comprising (A) hydrophobic polymers obtained from at least two or more water dispersion latexes, (B) a photopolymerizable compound and (C) a photopolymerization initiator, wherein the two or more hydrophobic polymers each is present in a fine particle state.
L'objectif de la présente invention est d'obtenir facilement une composition de résine photosensible qui peut être développée avec un révélateur à base d'eau, qui est résistante à des encres à base d'eau et des encres de cosolvant et qui permet une très bonne reproduction d'image et permet d'obtenir une couche photosensible et un cliché original en résine photosensible de bonne qualité. Cette composition de résine photosensible comprend au moins deux types de polymères hydrophobes (A) obtenus à partir de latex dispersés dans de l'eau, un composé photopolymérisable (B) et un initiateur de photopolymérisation (C) et est caractérisée en ce que les types de polymères hydrophobes sont respectivement présents sous forme de particules.
Hiramatsu Tomonori
Tomita Akira
Wada Toru
G. Ronald Bell & Associates
Toyo Boseki Kabushiki Kaisha
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1485885