G - Physics – 02 – B
Patent
G - Physics
02
B
G02B 5/26 (2006.01) G02B 6/12 (2006.01) G02B 6/124 (2006.01) G02B 6/136 (2006.01) H04J 14/02 (2006.01)
Patent
CA 2219539
It is known to expose a photosensitive waveguide core to an optical interference pattern which is produced using a phase mask. Precise positioning of the phase mask above the optical waveguide is difficult if several Bragg gratings are to be produced in a confined space. The invention solves the problem of how to produce virtually arbitrarily defined refractive-index gratings in a core of an optical waveguide with high precision without the use of phase masks. To accomplish this, a buffer layer of the optical waveguide, preferably the cladding layer (CLA), is patterned in such a way that UV laser light directed to the waveguide forms an optical interference pattern in the core (COR), thereby imprinting a Bragg grating. The pattern (GST) in the buffer layer is preferably formed by etching. (Fig. 1)
On connaît le processus d'exposition d'une âme de guide d'ondes photosensible à un motif d'interférence optique produit au moyen d'un masque de phase. Il est difficile de positionner avec précision le masque de phase au-dessus du guide d'ondes optiques lorsque plusieurs réseaux de Bragg doivent être produits dans un espace clos. La présente invention permet de produire avec beaucoup de précision des réseaux d'indices de réfraction définis plus ou moins arbitrairement dans l'âme d'un guide d'ondes optiques, sans avoir recours à des masques de phase. Pour accomplir cela, une couche d'amortissement du guide d'ondes optiques, de préférence une couche de métallisation, est formée de façon à ce que la lumière laser ultraviolet dirigée sur le guide d'ondes produise un motif d'interférence optique dans l'âme, imprimant ainsi un réseau de Bragg. La forme dans la couche d'amortissement est de préférence obtenue par attaque chimique (Fig. 1).
Alcatel
Alcatel Alsthom Compagnie Generale D'electricite
Robic
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1992058