H - Electricity – 05 – H
Patent
H - Electricity
05
H
H05H 1/54 (2006.01) F03H 1/00 (2006.01)
Patent
CA 2231888
PLASMA ACCELERATOR WITH CLOSED ELECTRON DRIFT AND CONDUCTIVE INSERTS A plasma accelerator with closed electron drift comprising a dielectric discharge chamber (6) with internal and external annular walls (13) forming an annular accelerating channel, and a magnetic system with sources (3) of a magnetic field, a magnetic path (2), external (4) and internal (5) magnetic poles forming an operating gap in the region of the discharge chamber exit edges. An anode unit (7) with a gas distributor is located in the accelerating channel interior, and the distance from the anode-gas distributor (7) to the accelerating channel exit plane exceeds said channel width. A cathode-compensator (I) is located beyond the exit plane of the discharge chamber (6). Exit parts of the discharge chamber walls (13) facing the accelerating channel are made of conducting material. At least one dividing annular groove (12) is made on each chamber wall between its conducting and main parts. Conducting parts of the discharge chamber walls are made as annular inserts (8,9) out of material resistant to ion sputtering. This invention increases accelerator efficiency, and decreases the sputtering rate of the plasma accelerator components as well as accelerator plume divergence.
Accélérateur à plasma à diffusion d'électrons fermée. L'accélérateur est constitué d'une chambre de décharge diélectrique (6) dotée de parois internes et externes annulaires (13) formant un canal d'accélération annulaire et d'un système à sources (3) de champ magnétique, d'un chemin magnétique (2), de pôles magnétiques externe (4) et interne(5) formant un entrefer fonctionnel dans la zone de sortie de la chambre d'évacuation. Une unité anodique (7) dotée d'un distributeur de gaz est située dans le canal d'accélération, et la distance entre l'anode-distributeur de gaz (7) et le plan de sortie du canal d'accélération est supérieure à la largeur du canal. Une anode-compensateur (I) est située au-delà du plan de sortie de la chambre de décharge (6). Des pièces de sortie des parois (13) de la chambre de décharge faisant face au canal d'accélération sont constituées d'un matériau conducteur. Au moins une rainure (12) de division annulaire est située sur chaque paroi de la chambre, entre les pièces conductrices et les pièces principales de celle-ci. Les pièces conductrices des parois de la chambre de décharge consistent en des inserts annulaires (8, 9) constituées d'un matériau résistant à la pulvérisation cathodique. Cette invention accroît l'efficacité de l'accélérateur et réduit le taux de pulvérisation des composantes de l'accélérateur à plasma ainsi que la divergence du panache de l'accélérateur.
Arkhipov Boris A.
Egorov Vitaly V.
Khartov Sergei A.
Kim Vladimir
Kozlov Vyacheslav I.
Gowling Lafleur Henderson Llp
International Space Technology Inc.
LandOfFree
Plasma accelerator with closed electron drift and conductive... does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Plasma accelerator with closed electron drift and conductive..., we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Plasma accelerator with closed electron drift and conductive... will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-1443765