Plasma apparatus and system

H - Electricity – 05 – H

Patent

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Details

H05H 1/34 (2006.01) H05H 1/42 (2006.01)

Patent

CA 2670257

A plasma apparatus including a first anode plasma head and a first cathode plasma head. Each of the plasma heads including an electrode, a plasma flow channel, and a primary gas inlet disposed between at least a portion of said plasma flow channel. The first anode plasma head and the first cathode plasma head being disposed at angle relative to one another. The plasma apparatus also including a second anode plasma head and a second cathode plasma head. Each of the plasma heads including an electrode, a plasma flow channel, and a primary gas inlet disposed between at least a portion of the electrode, the plasma flow channel, the second anode plasma head and the second cathode plasma head being disposed at an angle relative to one another.

La présente invention concerne un appareil à plasma comprenant une première tête à plasma anodique et une première tête à plasma cathodique. Chacune des têtes à plasma comprend une électrode, un canal d'écoulement de plasma et un orifice d'admission de gaz primaire placé dans au moins une partie du canal d'écoulement de plasma. La première tête à plasma anodique et la première tête à plasma cathodique sont disposées de façon qu'elles forment un angle l'une par rapport à l'autre. L'appareil à plasma comprend également une deuxième tête à plasma anodique et une deuxième tête à plasma cathodique. Chacune des têtes à plasma comprend une électrode, un canal d'écoulement de plasma et un orifice d'admission de gaz primaire placé dans au moins une partie de l'électrode, le canal d'écoulement de plasma, la deuxième tête à plasma anodique et la deuxième tête à plasma cathodique étant disposées de façon qu'elles forment un angle l'une par rapport à l'autre.

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