C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C
Patent
C - Chemistry, Metallurgy
23
C
C23C 16/505 (2006.01) C23C 16/30 (2006.01) H01L 31/18 (2006.01) H01L 31/20 (2006.01)
Patent
CA 2709717
A method to produce barrier coatings (such as nitrides, oxides, carbides) for large area thin film devices such as solar panels or the like using a high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process is presented. The proposed process provides a uniform deposition of barrier coating(s) such as silicon nitride, silicon oxide, silicon carbide (SiNx, SiO2, SiC) at a high deposition rate on thin film devices such as silicon based thin film devices at low temperature. The proposed process deposits uniform barrier coatings (nitrides, oxides, carbides) on large area substrates (about Im x 0.5m and larger) at a high frequency (27-81 MHz). Stable plasma maintained over a large area substrate at high frequencies allows high ionization density resulting in high reaction rates at lower temperature.
L'invention porte sur un procédé pour produire des revêtements barrières (tels que des nitrures, des oxydes, des carbures) pour des dispositifs en couche mince à aire importante, tels que des panneaux solaires ou similaires à l'aide d'un procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) haute fréquence. Le procédé proposé produit un dépôt uniforme d'un ou de plusieurs revêtements barrières tels que du nitrure de silicium, de l'oxyde de silicium, du carbure de silicium (SiNx, SiO2, SiC) à une vitesse de dépôt élevée sur les dispositifs en couche mince tels que des dispositifs en couche mince à base de silicium à une température faible. Le procédé proposé dépose des revêtements barrières uniformes (nitrures, oxydes, carbures) sur des substrats à aire importante (environ 1m x 0,5m et plus) à une fréquence élevée (27-81 MHz). Un plasma stable maintenu sur un substrat à aire importante à des fréquences élevées permet une densité d'ionisation élevée conduisant à des vitesses de réaction élevées à une température plus faible.
Keshner Marvin
Mcclelland Paul
Pirzada Shahid
Vaaler Erik
Forefront Innovative Technologies Inc.
Mccarthy Tetrault Llp
Optisolar Inc.
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1851362