Plasma-enhanced vaccum vapor deposition systems including...

C - Chemistry – Metallurgy – 23 – C

Patent

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C23C 14/24 (2006.01) C23C 14/32 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01)

Patent

CA 2338352

Apparatuses and methods for use in vacuum vapor deposition coating provide for, economical and continuous operation. A system and method for continuously melting and evaporating a solid material (7) for forming a coating vapor includes the use of a separate melting crucible (1) and evaporating crucible (13). A system and method for energizing the evaporative solids to form a plasma which includes first and second electrodes and a device for selectively switching polarity between the first and second electrodes to avoid coating vapor deposition on the electrodes. Another system and method for energizing the evaporative solids to form a plasma which includes an electric arc discharge apparatus with a cathodic and an anodic part. A continuously fed electrode is disclosed for continuous vaporization of electrode members in an electric arc discharge. An apparatus and method provides for measurement of the rate of evaporation from an evaporator and the degree of ionization in a vapor deposition coating system. Lastly, a system is disclosed for in-situ cleaning of vaporizable deposits for cleaning of the enclosure of the vacuum vapor deposition system.

L'invention concerne des appareils et des procédés à utiliser dans l'enrobage par dépôt sous vide, qui permettent un fonctionnement plus simple, plus économique et continu. Dans un système et un procédé de fusion et d'évaporation continues d'une matière solide pour la formation d'une vapeur d'enrobage, on utilise un creuset de fusion séparé et un creuset d'évaporation. L'invention porte également sur un système et un procédé d'excitation des solides d'évaporation, de sorte qu'un plasma soit formé: Ledit système comporte des première et deuxième électrodes et un dispositif pour changer sélectivement la polarité entre les première et deuxième électrode et empêcher le dépôt de vapeur d'enrobage sur les électrodes. L'invention se rapporte encore à un autre système et procédé pour l'excitation de solides d'évaporation de sorte qu'un plasma soit formé, dans lesquels on utilise un appareil à décharge d'arc électrique, comprenant une partie cathodique et une partie anodique. Une électrode alimentée en continu pour la vaporisation continue des éléments d'électrodes dans une décharge d'arc électrique est décrite. Un appareil et un procédé sont prévus pour la mesure de la vitesse d'évaporation dans un évaporateur et le degré d'ionisation dans un système d'enrobage par dépôt en phase vapeur. Par ailleurs, un système pour le nettoyage in-situ de dépôts vaporisables pour le nettoyage de l'enceinte du système de dépôt sous vide est décrit.

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