G - Physics – 01 – N
Patent
G - Physics
01
N
G01N 21/73 (2006.01) H05H 1/24 (2006.01) H05H 1/30 (2006.01) H05H 1/46 (2006.01)
Patent
CA 2412529
A plasma source for a spectrometer for spectrochemical analysis of a sample is characterised by use of the magnetic field component of applied microwave energy for exciting a plasma. The source includes a waveguide cavity (10) fed with TE10 mode microwave power. A plasma torch (16) passes through the cavity (10) and is axially aligned with a magnetic field maximum (18) of the applied microwave electromagnetic field. Magnetic field concentration structures such as triangular section metal bars (20) may be provided. In an alternative embodiment a resonant iris may be provided within a waveguide and the plasma torch positioned relative thereto such that the microwave electromagnetic field at the resonant iris excites the plasma.
L'invention concerne une source de plasma destinée à un spectromètre pour l'analyse spectrométrique d'un échantillon, ladite source de plasma se caractérisant par l'utilisation de la composante de champ magnétique de l'énergie micro-onde appliquée pour l'excitation d'un plasma. Ladite source comporte une cavité guide d'ondes (10) alimentée avec une puissance hyperfréquence de mode TE¿10?. Une torche à plasma (16) passe au travers de la cavité (10), ladite torche étant alignée axialement avec un maximum de champ magnétique (18) du champ électromagnétique hyperfréquence appliqué. Le dispositif selon l'invention peut faire intervenir des structures de concentration de champ magnétique telles que des barres métalliques de section triangulaire (20). Dans un autre mode de réalisation, une fenêtre résonnante peut être logée dans le guide d'ondes, et la torche à plasma peut être disposée par rapport à ladite fenêtre de manière que le champ électromagnétique hyperfréquence sur la fenêtre résonnante excite le plasma.
Agilent Technologies Australia (m) Pty Ltd
R. William Wray & Associates
Varian Australia Pty Ltd
LandOfFree
Plasma source for spectrometry does not yet have a rating. At this time, there are no reviews or comments for this patent.
If you have personal experience with Plasma source for spectrometry, we encourage you to share that experience with our LandOfFree.com community. Your opinion is very important and Plasma source for spectrometry will most certainly appreciate the feedback.
Profile ID: LFCA-PAI-O-2084492