H - Electricity – 05 – H
Patent
H - Electricity
05
H
H05H 1/34 (2006.01) B23K 10/00 (2006.01)
Patent
CA 2389437
A plasma torch and method for cutting a workpiece under water directs a primary gas through a primary gas flow path in the torch to a central exit opening of the torch disposed on a longitudinal axis of the torch for exhaustion from the torch onto the workpiece in the form of an ionized plasma. The workpiece is submerged in water while the plasma torch is operated in closely space relationship with the workpiece to direct the ionized plasma upon the workpiece. A secondary gas flow path in the torch receives a secondary gas separate from the primary gas and directs it through the torch. Concentrically arranged first and second sets of secondary exit openings are disposed in the torch separate from the central exit opening and in generally radially spaced relationship with the longitudinal axis of the torch. The secondary exit openings exhaust secondary gas from the torch in a direction generally toward the workpiece. The secondary gas is exhausted from the first and second secondary exit openings at a flow rate sufficient to displace water surrounding the ionized plasma exiting the central exit opening of the torch to inhibit quenching of the ionized plasma.
La présente invention concerne un chalumeau à plasma et un procédé de découpe sous l'eau. A cet effet, on envoie un gaz primaire au travers d'un chemin d'écoulement de gaz primaire sur l'orifice central de sortie du chalumeau disposé dans l'axe longitudinal du chalumeau pour sa sortie du chalumeau de façon qu'il ressorte du chalumeau et aboutisse sur la pièce sous forme d'un plasma ionisé. Cette pièce reste plongée dans l'eau pendant le fonctionnement du chalumeau à plasma dans une relation d'écartement étroit avec la pièce de façon à envoyer le plasma ionisé sur la pièce. Un chemin d'écoulement de gaz secondaire du chalumeau reçoit un gaz secondaire séparé du gaz primaire et l'envoie dans le chalumeau. Des ensembles concentriques de premiers et seconds orifices de sortie sont disposés dans le chalumeau à l'écart de l'orifice central de sortie, et dans une relation d'écartement généralement radial par rapport à l'axe longitudinal du chalumeau. Les orifices de sortie secondaires font ressortir le gaz secondaire du chalumeau généralement en direction de la pièce. Le gaz secondaire ressort des premiers et seconds orifices de sortie selon un débit suffisant pour déplacer l'eau entourant le plasma ionisé ressortant de l'orifice de sortie centra du chalumeau de façon à interdire le refroidissement du plasma ionisé.
Aher Barry
Hewett Roger
Horner-Richardson Kevin
Gowling Lafleur Henderson Llp
Thermal Dynamics Corporation
LandOfFree
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Profile ID: LFCA-PAI-O-1438387