Polishing material, namely for organic contact benses

Details Polishing material, namely for organic contact benses Polishing material, namely for organic contact benses

C - Chemistry, Metallurgy

09

G

57/10

C09G 1/16 (2006.01) C09G 1/02 (2006.01) C11D 3/00 (2006.01) C11D 3/12 (2006.01)

Patent

CA 1118658

PRECIS DE LA DIVULGATION L'invention concerne un matériau de polissage, caracté- risé par une composition comprenant en poids: de 30 à 60% d'oxy- de de cérium; de 35 à 65% d'eau; de 0.1 à 5% d'au moins une sub- stance faisant fonction d'épaissisant et choisis dans le groupe constitue par la carboxyméthylcellulose, l'éthylcellulose, le méthylcellulose, l'alcool polyvinylique, le polyacrylate de so- dium, le polyoxide de méthylène, le carboxyy-polyméthylène la polyvinylpyrrolidone, la caséine et la gomme arabique; et de 0.1 à 3% d'au moins une substance propre à abaisser la tension superficielle et choisie dans le groupe constitue par les sels alcalins et les silicones, L'invention est notamment applica- ble au polissage de lentilles ophtalmiques en matière organi- que.

319129

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